Cymer LLC
US-DUV+EUV-Light-Source seit 1986 — fuehrender ArF/KrF-Excimer-Laser-Hersteller, ASML-Tochter seit 2013.
Über das Unternehmen
Cymer LLC ist US-amerikanischer Marktfuehrer fuer Deep-UV (DUV) und Extreme-UV (EUV) Lichtquellen fuer Halbleiter-Lithography, gegruendet 1986 von Robert Akins und Richard Sandstrom (Studienfreunde) in San Diego (Kalifornien). HQ in 4S Ranch, San Diego (auch ASML San Diego Hauptstandort). 30. Mai 2013 von ASML akquiriert fuer EUR 1,95 Mrd zur Beschleunigung der EUV-Entwicklung. Operiert seitdem als unabhaengig-gefuehrte Business-Unit innerhalb ASML (Niederlande). UV-Aktivitaet: Excimer-Laser mit Argon-Fluorid (ArF, 193 nm) und Krypton-Fluorid (KrF, 248 nm) Gasen, plus EUV-Plasma-Lichtquellen (LPP-EUV 13,5 nm). Hauptkonkurrent von Gigaphoton (Komatsu) im DUV-Markt; Marktfuehrer in EUV.
Branchen-Story · Lifecycle
- 01.01.1986 Gründung
Cymer gegruendet (1986)
Cymer wurde 1986 von zwei Studienfreunden Robert Akins und Richard Sandstrom in San Diego (Kalifornien) gegruendet, um Laser- und Lithography-Lichtquellen-Technologie fuer die Halbleiter-Industrie zu entwickeln. Spezialisierung: Excimer-Laser (ArF 193 nm + KrF 248 nm) fuer DUV-Lithography, spaeter LPP-EUV-Lichtquellen.
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- 30.05.2013 Akquisition
Von ASML akquiriert fuer EUR 1.95 Mrd (2013)
ASML schloss die Akquisition von Cymer am 30. Mai 2013 fuer EUR 1,95 Mrd ab. Ziel: Beschleunigung der Extreme-UV-Lithography-Entwicklung. Operiert seitdem als unabhaengig-gefuehrte Business-Unit innerhalb ASML. Strategisch entscheidend fuer EUV-Marktfuehrung von ASML.
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